[发明专利]叠层标记有效
| 申请号： | 201410124013.X | 申请日： | 2014-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN104952846B | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 舒强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种叠层标记，包括：形成在半导体衬底或其外延层中一层中的前层测量标记和形成在该层后一层中同一位置的后层测量标记，所述叠层标记还包括均匀分布在所述前层测量标记和后层测量标记空白处的虚设图案，避免了应力作用使叠层标记发生畸变影响测量精度，此外，所述虚设图案的信号强度小于前层测量标记和后层测量标记的信号强度，在量测计算套刻精度时能被量测系统过滤，在不影响现有量测方式的情况下提高了测量精度和器件良率。 | ||
| 搜索关键词： | 标记 | ||
【主权项】：
1.一种叠层标记，包括：形成在半导体衬底或其外延层中一层中的前层测量标记和形成在该层后一层中同一位置的后层测量标记，其特征在于，所述叠层标记还包括均匀分布在所述前层测量标记和后层测量标记两侧空白处的虚设图案，所述虚设图案包括与前层测量标记位于同一层的第一虚设图案和与后层测量标记位于同一层的第二虚设图案，所述后层测量标记的图案为四个条形图形围成的方形框，所述第二虚设图案包括至少一组条形图形和一块状图形，每组条形图形平行分布于后层测量标记的图案的外侧，所述块状图形位于后层测量标记的图案的内侧，所述虚设图案的信号强度小于前层测量标记和后层测量标记的信号强度。
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