[发明专利]一种铁电薄膜钛酸锶钡的图形化方法

摘要

本发明公开了一种铁电薄膜钛酸锶钡的图形化方法，以图形化的光刻胶作为牺牲层，采用在有机溶剂中超声剥离的方法使铁电薄膜钛酸锶钡图形化。在清洗基片及光刻显影后，将基片放入磁控溅射仪真空室中，使用射频磁控溅射的方法进行铁电薄膜钛酸锶钡的沉积，再于有机溶剂中对基片进行剥离，于750℃退火，制得图形化的铁电薄膜钛酸锶钡。本发明所得图形精度高，调谐元器件具有良好的调谐性能和介电性能；方法简单、介电性能优良，具有良好的应用前景。

主权项

一种铁电薄膜钛酸锶钡的图形化方法，以图形化的光刻胶作为牺牲层，采用在有机溶剂中超声剥离的方法使铁电薄膜钛酸锶钡图形化；具体步骤如下：（1）清洗基片及光刻显影(a)将基片放入有机溶剂中超声清洗10‑20分钟，用去离子水冲洗后在氮气流中干燥；(b)将光刻胶旋涂在基片上，厚度1um‑4um，烘干后使用光刻掩膜版做曝光处理；(c)使用显影液将图形显影出来，获得图形化的光刻胶；(d)显影完成后，使用台阶仪测试曝光部分基片的平整度，以保证显影完全；（2）将步骤（1）光刻显影后的基片放入磁控溅射仪真空室中，在相应的射频靶上装置铁电材料钛酸锶钡靶材，使用射频磁控溅射的方法溅射铁电薄膜；（3）当磁控溅射仪真空室的真空度<6×10^‑6Torr时，开启射频源，通入工作气体，使用射频磁控溅射的方法进行铁电薄膜钛酸锶钡的沉积；（4）步骤（3）结束后，取出基片，在有机溶剂中对基片进行剥离，制得图形化的铁电薄膜钛酸锶钡；（5）将步骤（4）制得的图形化的铁电薄膜钛酸锶钡在空气气氛退火炉中退火，退火温度为750℃，退火时间为15分钟；（6）采用台阶仪对制品的薄膜厚度，以及表面的不均匀度和线粗糙度进行测试。