[发明专利]用于清洁光掩模的设备和方法有效
| 申请号： | 201410138840.4 | 申请日： | 2014-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN104181781B | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 郭成昊;赵珉煐 | 申请（专利权）人： | AP系统股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F1/82;B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 杨生平;钟锦舜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于清洁光掩模的设备和方法。该设备适合用于从光掩模去除残胶，其包括：光掩模，其设置为使得残胶遗留在其上的表面指向下；金属板，其被形成为邻近所述残胶；以及激光发生器，其用于照射激光在所述金属板上使得所述残胶被从所述金属板生成的热量去除。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 残胶 金属板 激光发生器 表面指向 热量去除 清洁 去除 照射 激光 邻近 遗留 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洁光掩模的设备，适合用于从光掩模去除残胶，其包括：光掩模，其设置为使得残胶遗留在其上的表面指向下；金属板，其邻近所述残胶形成；以及激光发生器，其用于照射激光在所述金属板上使得所述残胶被从所述金属板生成的热量去除。
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