[发明专利]半导体装置和其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410139469.3 申请日: 2014-04-09
公开(公告)号: CN104143550B 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: 横山孝司 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/77
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 梁兴龙;陈桂香
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种能够减小连接电阻的半导体装置以及制造半导体装置的方法。所述半导体装置包括:在半导体基板的主面侧上的晶体管;和在所述半导体基板的背面侧上的电阻变化元件,其中所述晶体管包括在所述半导体基板内的低电阻部,所述低电阻部延伸到所述半导体基板的背面,绝缘膜与所述低电阻部的背面接触设置,所述绝缘膜具有面对所述低电阻部的开口,和所述电阻变化元件通过所述开口连接到所述低电阻部。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,包括:在半导体基板的主面侧上的晶体管;和在所述半导体基板的背面侧上的电阻变化元件,其中所述晶体管包括在所述半导体基板内的扩散层和低电阻部,所述低电阻部具有比所述扩散层的电阻低的电阻,所述低电阻部延伸到所述半导体基板的背面,绝缘膜与所述低电阻部的背面接触设置,所述绝缘膜具有面对所述低电阻部的开口,和所述电阻变化元件通过所述开口连接到所述低电阻部。
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