[发明专利]一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置在审
| 申请号： | 201410140579.1 | 申请日： | 2014-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN104089812A | 公开（公告）日： | 2014-10-08 |
| 发明（设计）人： | 朱慧;刘琨;冯士维;郭春生 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | G01N3/02 | 分类号： | G01N3/02 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 纪佳 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种用于对样品施加均匀应力的四点法装置，属于压力加工技术领域。包括用于支撑整个装置的底座、标有固定刻度和可动刻度的旋钮、可上下移动的高度可调平台、反映加载力大小的压力传感器、实施加载力的上辊架和下辊台、用于支撑上辊架的支架、固定作用的螺钉；其特征在于通过旋钮调节高度可调平台向上移动，通过上辊架的两个上辊和下辊台的两个下辊对样品作用加载应力，且在下辊台的下辊之间的样品所受的应力均匀分布，使样品相对不易损坏，每次试验上辊架和下辊台的相对位置不变，不用重新布置，操作简单方便，试验效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 薄膜 样品 施加 均匀 应力 四点 装置 | ||
【主权项】：
一种用于对薄膜样品施加均匀应力的四点法装置，其特征在于，其包括旋钮（1）、下辊台（2）、上辊架（3）、螺钉（4）、样品（5）、高度可调平台（6）、压力传感器（7）、支架（8）和底座（9），其中， 上辊架（3）和支架（8）的数量各为两个，所述的支架（8）位于底座（9）上，上辊架（3）位于支架（8）的上端，两个支架（8）相对放置，高度可调平台（6）固定在两个支架（8）之间，下辊台（2）安装在高度可调节平台（6）上，下辊台（2）和高度可调节平台（6）之间连接有压力传感器（7）与外接的数字显示器相连接；所述的上辊架（3）有两个上辊，所述的下辊台（2）有两个下辊，所述的样品（5）放在下辊台（2）与上辊架（3）之间；通过高度可调节平台（6）调节下辊和上辊之间的距离，从而调节加载在样品（5）上的压力的大小； 所述的旋钮（1）用以调节高度可调节平台（6）的升降高度。
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