[发明专利]一种综合孔径微波辐射计阵列因子成型方法

摘要

本发明公开了一种综合孔径微波辐射计阵列因子成型方法，包括：根据天线单元的位置坐标计算与天线单元对应的空间频率域中的采样点的位置；在每个采样点上乘以一个对应于该采样点的系数，得到经过修正的阵列因子，并选择期望的阵列因子，计算经过修正的阵列因子与期望阵列因子的误差函数；计算使得误差函数范数最小或者均方误差最小条件下的系数；将上述计算得到的系数乘到相应的采样点上，得到修正后的阵列因子。经过修正后的阵列因子具有较小的旁瓣或较窄的主波束，提高非均匀采样综合孔径辐射计的反演精度；不仅适用于非均匀采样综合孔径辐射计，同时也适用于均匀采样综合孔径辐射计；对提高综合孔径辐射计的反演精度及空间分辨率有较好的效果。

主权项

一种综合孔径微波辐射计阵列因子成型方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1：根据天线单元的位置坐标计算与天线单元对应的空间频率域中的采样点的位置(u_k,v_k)；步骤S2：在每个采样点(u_k,v_k)上乘以一个对应于该采样点的系数c_k，得到经过修正的阵列因子AF_m(ξ,η)，并选择期望的阵列因子AF_ideal(ξ,η)，计算经过修正的阵列因子与期望阵列因子的误差函数e(ξ,η)＝a·[AF_m(ξ,η)‑AF_ideal(ξ,η)]_主波束+b·[AF_m(ξ,η)‑AF_ideal(ξ,η)]_旁瓣，其中系数a和b用来调节主波束和旁瓣区间内的误差的权重比例，是取值于区间(0,1]内的实数，在权重相同的情况下a＝b＝1；步骤S3：计算使得误差函数e(ξ,η)范数最小或者均方误差最小条件下的系数C＝[c₀,c₁,…,c_N‑1]^T；步骤S4：将步骤S3中计算得到的系数c_k乘到相应的采样点(u_k,v_k)上，得到修正后的阵列因子AF′(ξ,η)。