[发明专利]一种曝光用掩模板、曝光设备及显示用基板的制作方法有效
| 申请号： | 201410141112.9 | 申请日： | 2014-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN103941551A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 何璇;郭炜 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光用掩模板、曝光设备及显示用基板的制作方法，用以在光阻层上实现一种孔径更小、或者狭缝更窄，或者线条的宽度更小的图形。所述曝光用掩模板，包括：掩模板本体，位于所述掩模板本体出光侧用于防衍射的膜层；所述掩模板本体上设置透光区域和不透光区域；所述防衍射的膜层上至少与所述掩模板本体的透光区域对应的区域为透光区域；所述防衍射的膜层为折射率n>1的膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 模板 设备 显示 用基板 制作方法 | ||
【主权项】：
一种曝光用掩模板，其特征在于，包括：掩模板本体，位于所述掩模板本体出光侧用于防衍射的膜层；所述掩模板本体上设置透光区域和不透光区域；所述防衍射的膜层上至少与所述掩模板本体的透光区域对应的区域为透光区域；所述防衍射的膜层为折射率n>1的膜层。
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