[发明专利]具有双反射镜和凹槽形结构的原子气体腔器件及其制造方法无效
| 申请号： | 201410141911.6 | 申请日： | 2014-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN103941577A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 许磊;王光池;郑林华;刘建勇 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第三十八研究所 |
| 主分类号： | G04F5/14 | 分类号： | G04F5/14;B81B1/00;B81C1/00;B81C3/00 |
| 代理公司： | 合肥金安专利事务所 34114 | 代理人： | 金惠贞 |
| 地址： | 230088 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及具有双反射镜和凹槽形结构的原子气体腔器件及其制造方法。所述的原子气体腔器件由一层底部设有反射镜的具有凹槽的硅片和一层内部设有反射镜的玻璃片通过键合围成的腔体结构构成。所述的凹槽的横截面为倒梯形结构，由（100）型的单晶硅片通过硅各向异性湿法腐蚀形成，凹槽的侧壁为硅片的{111}晶面。玻璃片内部和硅片凹槽的底部各有一个反射镜，用于激光的多次反射。本发明所述的原子气体腔器件可用于原子钟和磁强计等系统中，激光在双反射镜间进行多次反射，从而增加激光与原子气体间的相互作用空间长度，使相干布局囚禁效应信号的信噪比增强，有利于提高系统的稳定度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反射 凹槽 结构 原子 体腔 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
具有双反射镜和凹槽形结构的原子气体腔器件，其特征在于：包括硅片和玻璃片，所述硅片的一侧面设有凹槽，凹槽内底部设有下反射镜；所述玻璃片的一侧面设有上反射镜；硅片和玻璃片通过键合形成原子气体腔器件，玻璃片上的上反射镜对应位于硅片的凹槽内，且与下反射镜对应。
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