[发明专利]一种功率半导体芯片测试用覆铜陶瓷基板有效
申请号: | 201410142703.8 | 申请日: | 2014-04-10 |
公开(公告)号: | CN103954804A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 张瑾;仇志杰;温旭辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | G01R1/04 | 分类号: | G01R1/04 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 关玲 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种功率半导体芯片测试用覆铜陶瓷基板,自上而下依次为:上铜层(0101)、陶瓷层(0102)、下铜层(0103)。上铜层(0101)刻蚀有正电极区(0201)、公共电极区(0202)、负电极区(0203)、第一门极区(0204)、第二门极区(0205),以及门极桥接区(0206),六个电路区域之间有绝缘沟道(0209)。第一门极区(0204)位于上铜层(0101)的左端,第一门极区(0204)的上方和右方为正电极区(0201),第一门极区(0204)的下方为公共电极区(0202)。公共电极区(0202)的右侧为负电极区(0203)。负电极区(0203)的左侧及下方为公共电极区(0202),右侧为第二门极区(0205)。门极桥接区(0206)位于负电极区(0203)内部,并且,门极桥接区(0206)位于覆铜陶瓷基板(01)的横轴中心线上。 | ||
搜索关键词: | 一种 功率 半导体 芯片 测试 用覆铜 陶瓷 | ||
【主权项】:
一种功率半导体芯片测试用覆铜陶瓷基板,其特征在于,所述的覆铜陶瓷基板由三层结构组成,自上而下依次为:上铜层(0101)、陶瓷层(0102)、下铜层(0103);上铜层(0101)的下方为陶瓷层(0102),陶瓷层(0102)的作用是实现上铜层(0101)与下铜层(0103)的电气绝缘;陶瓷层(0102)的下方为下铜层(0103),下铜层(0103)的作用是固定覆铜陶瓷基板;所述的上铜层(0101)刻蚀有电路图六个独立的电路区域:正电极区(0201)、公共电极区(0202)、负电极区(0203)、第一门极区(0204)、第二门极区(0205),以及门极桥接区(0206);所述六个电路区域之间均刻蚀有绝缘沟道(0209);所述的第一门极区(0204)位于上铜层(0101)的最左端,第一门极区(0204)的上方和右方为正电极区(0201),第一门极区(0204)的下方为公共电极区(0202);公共电极区(0202)的左侧为正电极区(0201),公共电极区(0202)的右侧为负电极区(0203);负电极区(0203)的左侧及下方为公共电极区(0202),右侧为第二门极区(0205);所述的门极桥接区(0206)位于负电极区(0203)内部,并且,门极桥接区(0206)位于覆铜陶瓷基板(01)的横轴中心线上。
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