[发明专利]制备直径为400mm以上的单晶硅的方法有效

专利信息
申请号: 201410148453.9 申请日: 2014-04-15
公开(公告)号: CN103911654A 公开(公告)日: 2014-07-09
发明(设计)人: 高忙忙;李进;张洪岩;梁森;李海波;李国龙;薛子文;何力军 申请(专利权)人: 宁夏大学
主分类号: C30B15/22 分类号: C30B15/22;C30B29/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 750021 宁夏回族*** 国省代码: 宁夏;64
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摘要: 一种制备直径为400mm以上的单晶硅的方法,该方法采用通过直拉法制造单晶硅,该方法包括如下步骤:装料和熔化;引晶;缩颈;放肩;等径生长:石英坩埚和晶体相互反方向旋转,根据熔体和单晶炉的状况,控制晶体等径生产所需长度,其中在等径初期,进口氩气流速为0.9m/s~1.5m/s,炉压22Torr,液口距为20mm;收尾;降温。上述方法能够降低“W-状”固液界面的波动幅度,提高硅片径向氧含量均匀性,使“W-状”固液界面极大值点向晶体边缘移动,增大晶体中心均匀区的含量,进而保证大直径单晶硅的品质。
搜索关键词: 制备 直径 400 mm 以上 单晶硅 方法
【主权项】:
一种制备直径为400mm以上的单晶硅的方法,该方法采用通过直拉法制造单晶硅,该制备直径为400mm以上的单晶硅的方法包括如下步骤:装料和熔化:将高纯多晶硅料粉碎,并在硝酸和氢氟酸的混合溶液中清洗外表面,除去可能的金属杂质;将粉碎后的高纯多晶硅料放入高纯的石英坩埚内,石英坩埚尺寸为≥800mm;将石英坩埚放入单晶炉中的石墨坩埚中;将单晶炉抽真空,再充入氩气,最后加热升温以熔化多晶硅料;引晶:将单晶籽晶固定在籽晶轴上,并和籽晶轴一起旋转;将籽晶缓缓下降后与将籽晶轻轻浸入熔硅,使头部首先少量溶解,然后和熔硅形成一个固液界面;将籽晶逐步上升,与籽晶相连并离开固液界面的硅温度降低,形成单晶硅;缩颈:快速向上提拉籽晶,以形成晶体;放肩:将晶体控制到所需的目标直径;等径生长:石英坩埚和晶体相互反方向旋转,根据熔体和单晶炉的状况,控制晶体等径生产所需长度,其中在等径初期,进口氩气流速为0.9m/s~1.5m/s,炉压22Torr,液口距为20mm;收尾:晶体直径逐渐缩小,离开熔体;降温:降低温度,逐渐冷却温度。
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