[发明专利]一种全息凹面闪耀光栅的母板及其制备方法

摘要

本发明公开了一种全息凹面闪耀光栅的母板及其制备方法，制作步骤如下：（1）制备全息凹面光栅掩模；（2）在全息凹面光栅掩模上沉积金属层；（3）在所述金属层上涂布粘合剂；（4）将与凸模连接的金属层和所述全息凹面光栅掩模分离，清洗，获得凸面金属光栅掩模；（5）测量所述凸面金属光栅掩模的栅齿结构，获得栅齿占空比信息；采用电铸或镀膜的方式以及化学腐蚀或离子刻蚀的方式调节栅齿的占空比；（6）采用离子束刻蚀凸面金属光栅掩模，使凸面金属光栅掩模转变成三角形闪耀结构，得到全息凹面闪耀光栅的母板。本发明将凹面光栅掩模结构转移到凸面金属层上，金属层柔韧性好，光栅槽型结构转移精度高，不易开裂变形，耐用性好。

主权项

一种全息凹面闪耀光栅的母板制备方法，其特征在于，包括下列步骤：（1）布置全息记录光路，在凹面镜基底上涂布光刻胶，经曝光，显影，形成全息凹面光栅掩模；（2）在所述全息凹面光栅掩模上沉积金属层，金属层厚度大于光栅栅齿的高度；（3）在所述金属层上涂布粘合剂，将其与凸模粘合固化，所述凸模与所述金属层形状配合； （4）将与凸模连接的金属层和所述全息凹面光栅掩模分离，清洗，获得凸面金属光栅掩模；（5）测量所述凸面金属光栅掩模的栅齿结构，与所需要凸面金属光栅掩模的栅齿占空比进行比较，若得到的栅齿占空比小于所需要的占空比，则通过电铸或镀膜的方式沉积金属层，增大栅齿的占空比；若得到的栅齿占空比大于所需要的占空比，则通过化学腐蚀或离子刻蚀，减小栅齿的占空比；（6）将所述凸面金属光栅掩模围绕凸面曲率中心转动，采用离子束刻蚀系统的离子束倾斜扫描刻蚀所述凸面金属光栅掩模，使所述凸面金属光栅掩模转变成三角形闪耀结构，得到全息凹面闪耀光栅的母板。