[发明专利]沉积装置和使用该沉积装置制造显示装置的方法无效
| 申请号： | 201410155011.7 | 申请日： | 2014-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN104342620A | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 金佑铉 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 刘钊;周艳玲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本申请涉及沉积装置和使用该沉积装置制造显示装置的方法。该沉积装置可以包括第一基底安装构件和可以与第一基底安装构件重叠的第二基底安装构件。沉积装置可以进一步包括设置在位于第一基底安装构件和第二基底安装构件之间的空间中的溅射单元。溅射单元可以具有第一开口和第二开口。第一开口可以被设置为比第二开口更靠近第一基底安装构件。第二开口可以被设置为比第一开口更靠近第二基底安装构件。可以分别通过第一开口和第二开口同时提供第一组材料和第二组材料。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 使用 制造 显示装置 方法 | ||
【主权项】：
一种沉积装置，包括：第一基底安装构件；与所述第一基底安装构件重叠的第二基底安装构件；和设置在位于所述第一基底安装构件和所述第二基底安装构件之间的空间中的溅射单元，所述溅射单元具有第一开口和第二开口，所述第一开口被设置为比所述第二开口更靠近所述第一基底安装构件，所述第二开口被设置为比所述第一开口更靠近所述第二基底安装构件。
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