[发明专利]一种高NA投影物镜有效

专利信息
申请号: 201410155301.1 申请日: 2014-04-17
公开(公告)号: CN103885159A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 白瑜;邢廷文;吕保斌;邓超;朱红伟;廖志远 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G02B13/18 分类号: G02B13/18;G02B13/14;G02B13/00;G02B17/08;G03F7/20
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 杨学明;李新华
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提出了一种高NA投影物镜,用于将掩膜面的图像成像到硅片面内。该高NA投影物镜,由第一单元、第二单元、第三单元、第四单元、第五单元、第六单元、第七单元、第八单元、第九单元和第十单元组成。其中第一单元L1、第二单元L2、第三单元L3、第五单元L5、第八单元L8具有正光焦度,第七单元L7、第九单元L9、第十单元L10具有负光焦度,第四单元L4、第六单元L6为45°放置的平面反射镜。本发明的高NA投影物镜可将物成缩小1/4的像,具有数值孔径大,分辨力高,结构紧凑,成像质量好等优点。
搜索关键词: 一种 na 投影 物镜
【主权项】:
一种高NA投影物镜,包括第一单元(L1)、第二单元(L2)、第三单元(L3)、第四单元(L4)、第五单元(L5)、第六单元(L6)、第七单元(L7)、第八单元(L8)、第九单元(L9)和第十单元(L10),其特征在于,第一单元(L1)具有正光焦度,第二单元(L2)具有正光焦度,第三单元(L3)具有正光焦度,第四单元(L4)为45°放置的平面反射镜,第五单元(L5)具有正光焦度,第六单元(L6)为45°放置的平面反射镜,第七单元(L7)具有负光焦度,第八单元(L8)具有正光焦度,第九单元(L9)具有负光焦度,第十单元(L10)具有负光焦度;第一单元(L1)包括第一正透镜(1)、第二正透镜(2)、第一负透镜(3)和第三正透镜(4);第二单元(L2)包括第四正透镜(5)和第二负透镜(6);第三单元(L3)包括第五正透镜(7),第六正透镜(8)和第七正透镜(9);第四单元(L4)包括第一平面反射镜(10);第五单元(L5)包括第三负透镜(11),第四负透镜(12),第八正透镜(13)和第一曲面反射镜(14);第六单元(L6)包括第二平面反射镜(18);第七单元(L7)包括第五负透镜(19),第六负透镜(20)和第七负透镜(21);第八单元(L8)包括第九正透镜(22),第十正透镜(23)和第八负透镜(24);第九单元(L9)包括第九负透镜(25),第十负透镜(26),第十一负透镜(27),第十二负透镜(28);第十单元(L10)包括第十三负透镜(29),第十四负透镜(30),第十五负透镜(31)。
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