[发明专利]化学气相沉积设备

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积设备，包括底座和盖板，所述底座和盖板均为槽状且两者盖合之后形成真空反应室，所述底座内设置载台，所述载台上放置待镀膜基板，所述盖板内设置气体扩散器，所述盖板的顶盖上开设有气体导入管；所述气体扩散器设置为分体式结构，包括多个独立的分体扩散器，多个所述分体扩散器位于同一水平层面上，每个所述分体扩散器上设置升降调节机构，由升降调节机构带动其对应的分体扩散器沿竖直方向升降。本发明能够使得整个气体扩散器喷射的反应物均匀沉积到下方基板上，提高基板成膜均匀性，弥补了由于备件老化导致的半导体膜局部缺陷不良问题，提高TFT产品良率，延长设备备件的使用寿命。

主权项

一种化学气相沉积设备，包括底座和盖板，所述底座和盖板均为槽状且两者盖合之后形成真空反应室，所述底座内设置载台，所述载台上放置待镀膜基板，所述盖板内设置气体扩散器，所述盖板的顶盖上开设有气体导入管；其特征在于，所述气体扩散器设置为分体式结构，包括多个独立的分体扩散器，多个所述分体扩散器位于同一水平层面上，每个所述分体扩散器上设置升降调节机构，由升降调节机构带动其对应的分体扩散器沿竖直方向升降。