[发明专利]一种用于集成电路多层布线中钨插塞的抛光液及其制备方法在审
| 申请号： | 201410156571.4 | 申请日： | 2014-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN103923567A | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 杨飏;宋奇吼 | 申请（专利权）人： | 杨飏;宋奇吼 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京天平专利商标代理有限公司 11239 | 代理人： | 王雅辉 |
| 地址： | 210012 江苏省南京市溧*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于集成电路多层布线中钨插塞的抛光液，其特征在于包括如下组分：粒径为15～100nm的硅溶胶550～600份；乙二胺四乙酸5～50份；表面活性剂OP-1040～50份；过氧焦磷酸35～38份，去离子水80～100份，以重量份计；用胺碱调节pH值至9～12。本发明产品不含金属离子，对钨插塞表面损伤小，能够高速率、高平整、低损伤抛光，避免金属离子在抛光过程中进入衬底所引起的器件局部穿通、漏电流增大等效应。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 集成电路 多层 布线 中钨插塞 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于集成电路多层布线中钨插塞的抛光液，其特征在于包括如下组分：粒径为15～100nm的硅溶胶550～600份；乙二胺四乙酸5～50份；表面活性剂OP‑10 40～50份；过氧焦磷酸35～38份，去离子水80～100份，以重量份计；用胺碱调节pH值至9～12。
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