[发明专利]一种具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法无效
申请号: | 201410157241.7 | 申请日: | 2014-04-21 |
公开(公告)号: | CN103924192A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 丁亮亮;洪瑞金;脱文刚;宋晓;张大伟;陶春先 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | C23C14/14 | 分类号: | C23C14/14;C23C14/34;C23C14/58;C23F4/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吴宝根 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法,选用金属银靶经直流溅射沉积系统,沉积在基片上,利用离子束刻蚀得到具有纳米微腔结构的金属银薄膜,此方法无需使用其他的辅助化学物质,不会引入新的杂质污染银薄膜微结构;与其它方法相比较,简便省时;本发明制作方法无毒无害,不会对操作人员造成伤害。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 纳米 结构 金属 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:1)将金属银靶和玻璃基片分别放入清洁装置中浸泡清洗,去除去除金属银靶和玻璃基片表面的油污;2)将基片放入直流溅射沉积系统中,控制直流溅射沉积系统工作功率、预溅时间、薄膜沉积时间,将金属银均匀的沉积在玻璃基底表面,从而在玻璃表面形成一层均匀的金属银薄膜,将沉积好的银薄膜取出备用;3)将金属银薄膜放入离子束刻蚀系统,设定系统电流、电压,以及离子束轰击金属银薄膜的表面角度、轰击时间后,进行轰击,形成表面具有纳米微腔结构的金属银薄膜。
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