[发明专利]一种半导体晶片的抛光倒角方法在审

专利信息
申请号: 201410157983.X 申请日: 2014-04-18
公开(公告)号: CN103985784A 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 孙海燕;陈慧卿;史春伟 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/02
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 吴永亮
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种半导体晶片的抛光倒角方法,包括:步骤A:将半导体晶片的正面涂覆光刻胶;步骤B:将涂覆光刻胶后的所述半导体晶片粘接到倒角器上;步骤C:将所述粘好半导体晶片的倒角器放到抛光盘上抛光倒角。依照本发明将半导体晶片的正面与侧面的交界处抛光为一定的弧度面,实现了半导体晶片边缘光亮、圆滑,无掉渣、崩边现象。从而达到降低生产红外焦平面探测器器件的成本、提高其性能和稳定性。
搜索关键词: 一种 半导体 晶片 抛光 倒角 方法
【主权项】:
一种半导体晶片的抛光倒角方法,其特征在于,包括:步骤A:将半导体晶片的正面涂覆光刻胶;步骤B:将涂覆光刻胶后的所述半导体晶片粘接到倒角器上;步骤C:将所述粘好半导体晶片的倒角器放到抛光盘上抛光倒角,使所述半导体晶片的正面与侧面的连接处形成预定弧度的倒角面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十一研究所,未经中国电子科技集团公司第十一研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410157983.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code