[发明专利]聚合物器件及其制造方法、透镜模块以及成像装置有效
| 申请号： | 201410158464.5 | 申请日： | 2014-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN104122641B | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 永井信之;石田武久;加藤祐作;川部英雄;森田真义 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B7/02 | 分类号： | G02B7/02;G02B7/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 胡莉莉;陈岚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及聚合物器件及其制造方法、透镜模块以及成像装置。一种聚合物器件，包括：一对电极层；高分子层，插入在一对电极层之间的；以及扩张收缩抑制层，布置在一对电极层之间，该扩张收缩抑制层被布置为远离各电极层，并且该扩张收缩抑制层被配置为抑制高分子层的扩张和收缩。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 器件 及其 制造 方法 透镜 模块 以及 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物器件，包括：一对电极层；高分子层，插入在所述一对电极层之间；以及扩张收缩抑制层，布置在所述一对电极层之间，所述扩张收缩抑制层被布置为远离各所述电极层，并且所述扩张收缩抑制层被配置为抑制所述高分子层的扩张和收缩，其中，所述扩张收缩抑制层由具有由离子传导树脂浸渍的空隙的纤维膜或多孔膜制成，其中，所述扩张收缩抑制层与所述高分子层相比具有较低的线性扩张系数和较高的杨氏模量。
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