[发明专利]具有绝缘层的铜导线及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410161668.4 申请日: 2014-04-22
公开(公告)号: CN103952742A 公开(公告)日: 2014-07-30
发明(设计)人: 刘新宽;刘平;陈小红;刘实;马凤仓;李伟;何代华 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: C25D11/06 分类号: C25D11/06;C23C2/12;C23F17/00;H01B7/02;H01B3/12
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 代理人: 郁旦蓉
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种具有绝缘层的铜导线,其特征在于,包括:用于导电的铜芯;包覆在所述铜芯表面的铜铝化合物层以及包覆在铜铝化合物层外表面的氧化铝陶瓷层,其中,铜铝化合物层由CuAl、CuAl2和Cu9Al4的混合物组成,铜铝化合物层的厚度为0.5~10μm,氧化铝陶瓷层的厚度为20~99μm。本发明提供一种制备上述具有绝缘层的铜导线的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤A,助镀剂处理;步骤B,热浸镀处理;步骤C,微弧氧化处理。在本发明所涉及的具有绝缘层的铜导线中,绝缘层与基体的结合强度超过40MPa,绝缘层耐热性良好,可以在500℃的高温下安全工作。本发明提供的制备具有绝缘层的铜导线的方法,工艺简单,制备成本低。
搜索关键词: 具有 绝缘 导线 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有绝缘层的铜导线,其特征在于,包括:用于导电的铜芯;包覆在所述铜芯表面的铜铝化合物层;以及包覆在所述铜铝化合物层外表面的氧化铝陶瓷层,其中,所述铜铝化合物层由CuAl、CuAl2以及Cu9Al4的混合物组成,所述铜铝化合物层的厚度为0.5~10μm,所述氧化铝陶瓷层的厚度为20~99μm。
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