[发明专利]一种快速退火装置的监控方法有效
| 申请号： | 201410164077.2 | 申请日： | 2014-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN104018228A | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | 倪棋梁;陈宏璘;龙吟 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/02 | 分类号： | C30B33/02;H01L21/324;H01L21/477 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种快速退火装置的监控方法，包括：提供一晶圆衬底；于所述晶圆衬底的形成若干有源区结构，且相邻的所述有源区结构之间通过沟槽隔开；继续于所述沟槽中填充氧化物，并进行平坦化工艺；由于负载效应，所述有源区结构的部分侧壁暴露；将有源区结构部分表面暴露的晶圆衬底放入快速退火装置，以进行快速退火处理；继续对完成所述快速退火工艺的晶圆衬底进行缺陷检测，根据缺陷检测的结果监控所述快速退火装置的加热效果。利用本发明技术，通过有源区损伤的缺陷分布来确定快速退火装置加热效果发生衰减的区域，从而能及时地进行更换，进而避免对后续制备的产品造成影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 快速 退火 装置 监控 方法 | ||
【主权项】：
一种快速退火装置的监控方法，其特征在于，所述方法包括：提供一晶圆衬底；于所述晶圆衬底上形成若干有源区结构，且相邻的所述有源区结构之间通过沟槽隔开；继续于所述沟槽中填充氧化物，并进行平坦化工艺；由于负载效应，所述有源区结构的部分侧壁暴露；将有源区结构部分侧壁暴露的晶圆衬底放入快速退火装置，以进行快速退火处理；继续对完成所述快速退火工艺的晶圆衬底进行缺陷检测，根据缺陷检测的结果监控所述快速退火装置的加热效果。
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