[发明专利]一种连续多真空室卷绕镀膜设备无效
| 申请号： | 201410166245.1 | 申请日： | 2014-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN103911595A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 王振东;何万能 | 申请（专利权）人： | 苏州诺耀光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构、放卷室、隔离阀门、真空溅射室A、真空溅射机构A、隔离腔、真空溅射室B、真空溅射机构B、隔离腔、真空溅射室C、真空溅射机构C、导向轴、收卷室、收卷机构、隔离机构、沉积室A、沉积室B以及沉积室C。本发明提供一种连续多真空室卷绕镀膜设备，全部采用分子泵系统，各沉积室之间设有隔离腔，可以很好的避免气体间相互干扰，可以一次性沉积多种膜层，也可以实现多种工艺膜系一次完成。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 连续 真空 卷绕 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种连续多真空室卷绕镀膜设备，其特征在于：所述设备包括放卷机构（1）、放卷室（2）、隔离阀门（3）、真空溅射室A（4）、真空溅射机构A（5）、隔离腔（6）、真空溅射室B（7）、真空溅射机构B（8）、隔离腔（9）、真空溅射室C（10）、真空溅射机构C（11）、导向轴（12）、收卷室（13）、收卷机构（14）、隔离机构（15）、沉积室A（16）、沉积室B（17）以及沉积室C（18），所述放卷室（2）中设置有放卷机构（1），所述沉积室A（16）中设置有真空溅射室A（4），所述真空溅射室A（4）中设置有真空溅射机构A（5），所述所述沉积室B（17）中设置有真空溅射室B（7），所述真空溅射室B（7）中设置有真空溅射机构B（8），所述所述沉积室C（18）中设置有真空溅射室C（10）,所述真空溅射室C（10）中设置有真空溅射机构C（11），所述收卷室（13）中设置有收卷机构（14），所述隔离机构（15）上分别设置有隔离阀门（3）、隔离腔（6）、隔离腔（9）和导向轴（12）。
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