[发明专利]金属离子印迹聚合物及其制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 201410168762.2 申请日: 2014-04-24
公开(公告)号: CN105085924A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 康澍;郑清林;王利平;王倩;卢瑞华 申请(专利权)人: 北京普析通用仪器有限责任公司
主分类号: C08G77/26 分类号: C08G77/26;C08G77/20;C08G77/28;C08G77/14;C08G79/00;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;B01D15/02
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 李英艳
地址: 101200*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种金属离子印迹聚合物的制备方法,包括将硅烷偶联剂、交联剂、表面活性剂、溶剂和金属离子模板通过溶胶-凝胶法制得所述金属离子印迹聚合物。本发明还提供了由上述方法制得的金属离子印迹聚合物及其应用。本发明的方法制得的金属离子印迹聚合物可以很好的满足对金属专一性吸附的要求,这类吸附剂耐高温、耐酸碱、开发周期较短、能从复杂的体系中选择性地提取出微量目标物。
搜索关键词: 金属 离子 印迹 聚合物 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种金属离子印迹聚合物的制备方法,包括将硅烷偶联剂、交联剂、表面活性剂、溶剂和金属离子模板通过溶胶‑凝胶法制得所述金属离子印迹聚合物。
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