[发明专利]绘制装置和半导体器件的制造方法

摘要

本发明提供一种绘制装置和物品的制造方法，所述绘制装置用于利用带电粒子束在基板上执行绘制，包括台架，被配置为保持所述基板并且被移动；带电粒子光学系统，被配置为照射沿着第一轴排列的多个带电粒子束；以及控制器，被配置为控制绘制，以便利用所述多个带电粒子束对基板上的目标部分执行多次照射，其中，所述控制器被配置为控制绘制，使得相对于基板上沿着所述第一轴形成的多个区域所述台架沿着所述第一轴在一个方向上移动，并且相对于所述多个区域中的每一个上的绘制执行对于带电粒子束沿着所述第一轴的移位的带电粒子束的偏转。

主权项

一种绘制装置，用于利用带电粒子束在基板上执行绘制，所述绘制装置包括：基板台架，被配置为保持所述基板并且被移动；带电粒子光学系统，其具有照射沿着第一轴排列的多个带电粒子束、使所述多个带电粒子束单独地消隐、以及使所述多个带电粒子束的至少一部分偏转以执行所述多个带电粒子束的所述至少一部分在基板上的移位的功能；以及控制器，被配置为控制绘制，以便利用所述多个带电粒子束的至少一部分对基板上的目标部分执行多次照射，其中，所述控制器被配置为控制绘制，使得相对于基板上沿着所述第一轴形成的多个射击区域所述基板台架沿着所述第一轴在一个方向上移动，并且随着所述多个射击区域中的作为单位的每一个射击区域上的绘制执行对于沿着所述第一轴的移位的偏转，并且其中，所述控制器被配置为控制绘制，使得在利用所述多个带电粒子束的至少一部分在所述多个射击区域中的第一射击区域上绘制期间，随着基板台架被移动，所述多个带电粒子束中的位于所述多个射击区域中的第二射击区域中的带电粒子束消隐，并且在利用所述多个带电粒子束的所述至少一部分在所述第一射击区域上的绘制结束之后，执行对于沿着所述第一轴的移位的偏转，然后开始利用所述多个带电粒子束的至少一部分在所述第二射击区域上绘制。