[发明专利]一种共溅射旋转靶材及其制备方法无效
| 申请号： | 201410181267.5 | 申请日： | 2014-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN103938173A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 黄常刚;李京波;李庆跃;吴宗泽;李凯;汪林望;吴海虹;李树深;夏建白;王臻 | 申请（专利权）人： | 浙江东晶电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 金华科源专利事务所有限公司 33103 | 代理人： | 胡杰平 |
| 地址： | 321000 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及薄膜的物理制备技术领域，具体是一种共溅射旋转靶材及其制备方法，其特征在于：包括旋转圆柱靶管及中心静止不动的磁铁，所述旋转圆柱靶管由不同形状的掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元以不同的形式分布在圆筒形支撑衬底上，掺杂成份靶材单元和本体成份靶材单元两者按照一定的排布规律分布。本发明将需要共溅射和共掺杂的靶材单元制作成不同的形状，以不同的形式分布在圆筒形支撑衬底上，而圆筒形支撑衬底的中心放置静止不动的磁铁，慢速转动实现磁控溅射，达到高均匀性共掺杂的目的，其靶材利用率也比较高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 旋转 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种共溅射旋转靶材，其特征在于：包括旋转圆柱靶管及中心静止不动的磁铁。
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