[发明专利]一种膜厚测量方法及装置、涂覆机在审

专利信息
申请号: 201410184440.7 申请日: 2014-05-04
公开(公告)号: CN103983200A 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 肖宇;袁剑峰;吴洪江;董明;冯贺 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;B05C11/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及成膜技术领域,公开了一种膜厚测量方法及装置、涂覆机。在涂覆机上设置膜厚测量装置,所述膜厚测量装置通过获取光线经过测试基板上的湿膜后的识别参数检测值,来测量形成的湿膜厚度,由于湿膜厚度对应干燥后的膜厚变化量是一定的,通过测量湿膜的厚度即可快速得到干燥后的膜厚,缩短了测量干燥后的膜厚所需的工艺时间,且在测试基板上形成湿膜所需的物料很少,不会造成大量物料的浪费。
搜索关键词: 一种 测量方法 装置 涂覆机
【主权项】:
一种膜厚测量装置,用于测量测试基板上形成的湿膜厚度,其特征在于,包括:光源,发出的光线经过所述测试基板上的湿膜后射出;光感单元,用于接收所述光源射出的光线,输出相应的感应信号;参数检测值获取单元,用于接收所述光感单元输出的感应信号,根据所述感应信号获取所述光源发出的光线经过测试基板上的湿膜后的识别参数检测值,所述识别参数检测值与湿膜的厚度相关;计算单元,用于根据所述识别参数检测值计算出湿膜的厚度。
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