[发明专利]一种抛光砖抛釉砖加工工艺

摘要

本发明公开一种抛光砖抛釉砖加工工艺，其特征在于，包括：抛光—水洗—风干—洁亮—第一次防污—磨边—水洗—风干—对色、分级—第二次防污—包装。其中，所述洁亮是指在风干后的砖体表面涂布一层二氧化硅溶胶，二氧化硅溶胶经失水后聚合成玻璃体填充在抛光砖面层的孔洞内；所述第一次防污是指在洁亮后的砖体表面涂布不足量的防污液，充当工序间的临时保护；所述第二次防污是指在砖体表面涂布防污液形成永久保护。与现有技术相比，本发明将磨边工序放在第一次防污工艺，即使在瓷砖边缘存在暗边区，但通过后续的磨边工序也可将暗边区完全磨去，从根本上解决了高光泽度抛光砖的边沿光度低、防污差的问题，使高光泽度抛光砖的产品性能得到极大提升。

主权项

一种抛光砖抛釉砖加工工艺，其特征在于，包括：抛光—水洗—风干—洁亮—第一次防污—磨边—水洗—风干—对色、分级—第二次防污—包装；其中，所述洁亮是指在风干后的砖体表面涂布一层二氧化硅溶胶，二氧化硅溶胶经失水后聚合成玻璃体填充在抛光砖面层的孔洞内，形成光滑的镜面；所述第一次防污是指在洁亮后的砖体表面涂布不足量的防污液，充当工序间的临时保护；所述第二次防污是指在砖体表面涂布防污液形成永久保护。