[发明专利]双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线在审
| 申请号： | 201410184791.8 | 申请日： | 2014-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN104018131A | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | 郭爱云 | 申请（专利权）人： | 红安华州光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 438400 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种工作效率高、设计合理的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线，包括机架，所述机架上依次设置有进口真空腔体、进口缓冲真空腔体、进口过渡腔体、工艺真空腔体、出口真空腔体、出口缓冲真空腔体和出口过渡腔体；所述机架上、贯穿上述腔体设置有触摸屏基片输送带；所述工艺真空腔体为9个，所述每个工艺真空腔体都布置有2对阴极，所述9个工艺真空腔体可布置18对阳极，所述18对阳极中，含有18对Nb2Ox阳极；或1到8对SiOx阳极；或1到6对Ito阳极；所述进口真空腔体内配备有1到2组低真空抽气系统；所述进口缓冲真空腔体和出口缓冲真空腔体内配备1到2组高真空抽气系统；所述工艺真空腔体内配备2到3组维持高真空抽气系统。本生产线结构合理，功能先进，工作效率高，有利于推广使用。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 氧化 磁控溅射 镀膜 生产线 | ||
【主权项】：
双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线，其特征在于，包括机架，所述机架上依次设置有进口真空腔体、进口缓冲真空腔体、进口过渡腔体、工艺真空腔体、出口真空腔体、出口缓冲真空腔体和出口过渡腔体；所述机架上、贯穿上述腔体设置有触摸屏基片输送带；所述工艺真空腔体为9个，所述每个工艺真空腔体都布置有2对阴极，所述9个工艺真空腔体可布置18对阳极，所述18对阳极中，含有18对Nb2Ox阳极；或1到8对SiOx阳极；或1到6对Ito阳极；所述进口真空腔体内配备有1到2组低真空抽气系统；所述进口缓冲真空腔体和出口缓冲真空腔体内配备1到2组高真空抽气系统；所述工艺真空腔体内配备2到3组维持高真空抽气系统。
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