[发明专利]电致化学抛光方法有效
| 申请号： | 201410185241.8 | 申请日： | 2014-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN103924287A | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 周平;康仁科;单坤;时康;蔡吉庆;董志刚;郭东明 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学;厦门大学 |
| 主分类号： | C25F3/12 | 分类号： | C25F3/12;H01L21/3063 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人： | 贾汉生;李馨 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供一种电致化学抛光方法，包括以下步骤：配制含有电活性中介体、pH调节剂、粘度调节剂和抑制剂的工作液；将工作电极工作面与工件表面平行相对设置，工作电极工作面具有小于1μm平整度；将工作电极工作面和工件表面浸入工作液中，通过微纳复合进给机构调整工作电极工作面与工件表面的间距至0.05μm～20μm；启动电源使工作电极和辅助电极通电，工作电极工作面附近的电活性中介体通过电化学反应生成刻蚀剂，通过刻蚀剂扩散至工件表面并发生扩散控制的刻蚀反应，对工件表面局部高点进行选择性刻蚀，实现对工件表面无应力抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 化学抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种电致化学抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：配制含有电活性中介体的工作液；将工作电极工作面和工件表面浸入工作液中，所述工作电极工作面与工件表面平行相对设置，所述工作电极工作面具有小于1μm的平整度和小于0.05μm的粗糙度；启动电源给工作液中的工作电极和辅助电极通电，使工作电极工作面通过电化学作用产生刻蚀剂，控制工作电极和工件表面间隙为0.05μm～20μm，进行扩散控制的选择性刻蚀，实现工件表面抛光；其中所述电活性中介体为经过电化学反应能转变成刻蚀剂的物质，所述刻蚀剂为能与工件发生化学反应的离子或者自由基基团。
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