[发明专利]一种硬质涂层的快速沉积装置及方法在审
| 申请号： | 201410186643.X | 申请日： | 2014-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN104032267A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 宋忠孝;雷哲锋;邢聪;程亮亮;宋佳豪 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 陆万寿 |
| 地址： | 710049 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 一种硬质涂层的快速沉积装置及方法，该装置包括阴极弧源以及开设进气口的真空腔体；真空腔体与真空系统相连，真空腔体与阴极弧源之间设有用于聚束腔体；聚束腔体与真空腔体相连通，且聚束腔体内设置有待测样，待测样与阴极弧源之间设有靶材，阴极弧源的电源正极分别与真空腔体和偏压电源的正极相连，阴极弧源的电源正极、真空腔体、偏压电源的正极分别接地。该方法为对真空系统抽真空，并利用氩气和反应气清洗真空系统，然后对待测样的表面进行辉光清洗，然后在其表面沉积过渡金属层，接着沉积硬质涂层。相比传统沉积装置及方法，本发明沉积速率大大提高，节约靶材，更节约能源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硬质 涂层 快速 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种硬质涂层的快速沉积装置，其特征在于：包括阴极弧源(3)以及开设有进气口的真空腔体(1)；所述的真空腔体(1)与真空系统(4)相连，真空腔体(1)与阴极弧源(3)之间设有用于为阴极弧源(3)发出的等离子体提供聚束磁场的聚束腔体(2)；聚束腔体(2)与真空腔体(1)相连通，且聚束腔体(2)内设置有待测样，待测样与阴极弧源(2)之间设有靶材，阴极弧源(3)的电源正极分别与真空腔体(1)和为待测样提供负偏压的偏压电源(5)的正极相连，阴极弧源(3)的电源正极、真空腔体(1)、偏压电源(5)的正极分别接地。
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