[发明专利]一种溅射设备

摘要

本发明公开了一种溅射设备，包括处理腔室、基板保持器、靶保持器、闸板、驱动装置、闸板容纳单元以及将气体引入处理腔室中的气体引入管；气体引入管布置成使得气体引入闸板容纳单元且从气体引入管引入闸板容纳单元的气体通过闸板容纳单元的开口部分引入至处理腔室。闸板能够运动成采取屏蔽状态和后退状态中的一个，在该屏蔽状态中，闸板屏蔽在基板保持器和靶保持器之间的间隙，在该后退状态中，闸板从在基板保持器和靶保持器之间的间隙后退。闸板容纳单元有开口部分，闸板将通过开口部分伸出至处理腔室并从处理腔室后退，且构造成容纳处于后退状态的闸板。它防止沉积薄膜粘附在排气腔室上，且抑制颗粒的产生。

主权项

一种溅射设备，该溅射设备包括：处理腔室(2)，该处理腔室设置成进行沉积处理；基板保持器(7)，该基板保持器布置在所述处理腔室中，并设置成将基板布置于该基板保持器上；靶保持器(6)，该靶保持器布置在所述处理腔室中；闸板(19)，该闸板能够运动成采取屏蔽状态和后退状态中的一个，在该屏蔽状态中，所述闸板屏蔽在所述基板保持器和所述靶保持器之间的间隙，在该后退状态中，所述闸板从在所述基板保持器和所述靶保持器之间的间隙后退；驱动装置(32)，用于驱动所述闸板；闸板容纳单元(23)，该闸板容纳单元有开口部分(303)，闸板将通过该开口部分伸出至该处理腔室并从该处理腔室后退，且构造成容纳处于后退状态的所述闸板；以及气体引入管(161)构造成将气体引入处理腔室中；其中，该气体引入管布置成使得气体引入闸板容纳单元且从该气体引入管引入闸板容纳单元的气体通过闸板容纳单元的开口部分引入至该处理腔室。