[发明专利]半化学半机械密封式超低氧含量雾化设备

摘要

本发明涉及一种雾化设备，特别是涉及一种水雾化或水气雾化设备，用于制备金属及合金粉末，属粉末冶金设备技术领域。采用本发明的水雾化设备，与目前国内的水雾化设备相比，具有安全，生产出来的粉末其氧含量在50至500ppm的特点。本发明所发明的雾化设备具备如下三点的特征。1，本设备具有采用半化学如加入CO等还原性气体及半机械密封如移动隔板的方式以降低熔炼室中氧含量的特点。2，本设备所采用的机械密封方式能完全隔开熔炼室和雾化室。该密封方式具备允许金属溶液进入雾化室同时又可防止水汽进入熔炼室的特点，避免了可能发生爆炸。同时避免了雾化室中的水气进入熔炼室，以免影响抽真空。3，本设备具有把熔炼设备装在密封的容器中的特点。然后采用抽真空的方式抽走容器中的全部空气，并在必要时采用惰性气体或还原性气体来进行保护。

主权项

本设备必须同时包括如下三点的技术特征。(1)本设备具有采用半化学如加入CO等还原性气体(包括加入惰性的气体或直接抽真空，但会导致氧含量略高)及半机械密封如采用移动隔板的方式以降低熔炼室中氧含量的特点。(2)本设备采用机械密封方式以隔开熔炼室和雾化室。该密封方式具备允许金属溶液进入雾化室同时又可防止水汽进入熔炼室的特点，避免了可能发生爆炸。同时避免了雾化室中的水气进入熔炼室，以免影响抽真空。(3)本设备具有把熔炼设备装在密封的容器中的特点。然后采用抽真空的方式抽走熔炼室的全部空气，并在必要时采用惰性气体或还原性气体来进行保护。