[发明专利]改性二氧化硅微粒及其制造方法、薄膜形成用的涂布液、带薄膜的基材、以及光电单元有效
| 申请号： | 201410200714.7 | 申请日： | 2014-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN104164099B | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 二神涉;松田政幸;村口良;平井俊晴 | 申请（专利权）人： | 日挥触媒化成株式会社 |
| 主分类号： | C09C1/28 | 分类号： | C09C1/28;C09C3/12;C09C3/06;C09D183/04;C09D183/08;C09D7/62 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 冯雅 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及改性二氧化硅微粒及其制造方法、薄膜形成用的涂布液、带薄膜的基材、以及光电单元。本发明可实现耐候性高的功能性薄膜。为此，使用包含在表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的涂布液，来制备薄膜。这里，低聚物是分子量为1000～10000、单体结合后的形态。表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的二氧化硅微粒的耐酸性高，包含该二氧化硅微粒的薄膜致密、耐候性高。此外，作为涂布液的粘合剂成分，使用4官能的有机硅化合物。构成低聚物的有机硅化合物与粘合剂成分的有机硅化合物可以是相同的化合物，也可以是不同的化合物。特别是使用二氧化硅中空微粒等低折射率的微粒，可制备防反射膜。 | ||
| 搜索关键词： | 改性 二氧化硅 微粒 及其 制造 方法 薄膜 形成 涂布液 基材 以及 光电 单元 | ||
【主权项】：
1.一种改性二氧化硅微粒，其特征在于，该微粒是在二氧化硅微粒的表面结合有4官能的有机硅化合物的低聚物的改性二氧化硅微粒，所述低聚物是所述4官能的有机硅化合物的单体以线状结合后的形态，所述低聚物的平均分子量在1000～10000的范围内,所述有机硅化合物表示为SiX4，其中X是碳数1～4的烷氧基、羟基、卤素、氢。
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