[发明专利]一种体硅谐振式压力传感器的圆片级真空封装方法有效

专利信息
申请号: 201410205595.4 申请日: 2014-05-15
公开(公告)号: CN104003350A 公开(公告)日: 2014-08-27
发明(设计)人: 何军;张大成;黄贤;张立;赵丹淇;王玮;杨芳;田大宇;刘鹏;李婷;罗葵 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;G01L1/10
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 代理人: 余长江
地址: 100871 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种应用于体硅谐振式压力传感器的圆片级封装方法,其步骤包括:1)根据谐振式压力传感器的结构选取合适的SOI硅片和进行阳极键合的玻璃片;2)对SOI硅片的器件层进行台阶刻蚀,形成器件结构;3)去除部分埋氧层,释放器件结构;4)将SOI片和玻璃片进行真空阳极键合;5)对硅片进行减薄;6)通过光刻定义引线窗口,然后刻蚀硅,露出埋氧层;7)去除引线窗口内的埋氧层;8)在硅片表面淀积二氧化硅,形成电学隔离;9)对淀积的二氧化硅进行刻蚀,形成pad孔;10)淀积金属pad。本发明采用圆片级封装,工艺流程简单,能够大大降低体硅谐振式压力传感器的真空封装成本。
搜索关键词: 一种 谐振 压力传感器 圆片级 真空 封装 方法
【主权项】:
一种体硅谐振式压力传感器的圆片级真空封装方法,其步骤包括:1)根据体硅谐振式压力传感器的结构选取SOI硅片和用于进行阳极键合的玻璃片;2)对SOI硅片的器件层进行台阶刻蚀,形成器件结构;3)去除SOI硅片的部分埋氧层,释放器件结构;4)将SOI硅片和玻璃片进行真空阳极键合;5)对硅片进行减薄,剩余厚度与器件设计尺寸相吻合;6)通过光刻定义引线窗口,然后刻蚀硅,露出埋氧层;7)去除引线窗口内的埋氧层;8)在硅片表面淀积二氧化硅,形成电学隔离;9)对淀积的二氧化硅进行刻蚀,形成pad孔;10)淀积金属pad。
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