[发明专利]基于反向结构的半导体量子点发光二极管及其制备方法有效
申请号: | 201410206672.8 | 申请日: | 2014-05-15 |
公开(公告)号: | CN103972416B | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 谭占鳌;孙刚;屠逍鹤;侯旭亮 | 申请(专利权)人: | 华北电力大学 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司11246 | 代理人: | 黄家俊 |
地址: | 102206 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于发光二极管器件制备技术领域,特别涉及一种基于反向结构的半导体量子点发光二极管及其制备方法。本发明半导体量子点发光二极管依次包括层叠的衬底、透明导电金属氧化物电极层、电子注入层、量子点发光层、空穴注入层和对电极层,其中涉及的电子注入层采用乙酰丙酮钛膜材料。可采用旋涂等溶液加工的方法制备电子注入层,将乙酰丙酮钛引入反向结构量子点发光二极管器件制备中,实现了电子的有效注入;并且与传统的正向结构和溶胶凝胶法制备的二氧化钛、氧化锌相比,本发明具有发光颜色纯、制备工艺简单,成本低廉,实验重复性和稳定性好、适合于大规模工业化生产等特点。 | ||
搜索关键词: | 基于 反向 结构 半导体 量子 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于反向结构的半导体量子点发光二极管,所述半导体量子点发光二极管中衬底(1)、透明导电金属氧化物电极层(2)、电子注入层(3)、量子点发光层(4)、空穴注入层(5)和对电极层(6)顺次相连;其特征在于:所述电子注入层(3)的材质为乙酰丙酮钛膜材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华北电力大学,未经华北电力大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410206672.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种基于FPGA的电子稳像系统
- 下一篇:一种CIS宽幅工业相机快速传输装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择