[发明专利]一种锗晶体码盘分划工艺在审
申请号: | 201410211244.4 | 申请日: | 2014-05-20 |
公开(公告)号: | CN103955114A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 苏颖;陈俊霞;张勇;张成群;龚涛;赵科兵;赵淑君 | 申请(专利权)人: | 河南平原光电有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G01D5/347 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 454001 河南省焦*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明公开了一种锗晶体码盘分划工艺,其工艺流程为:涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→清洗→镀铬→去胶→检验。本发明的有益效果是:解决了锗晶体码盘图案的制作技术难题,在锗晶体光坯上制作出明暗对比度大、图案边缘不均匀性小的码盘图案,激光通过码盘上的光栅通道,形成信息场的调制频率,满足激光驾束制导仪的使用。该方法对晶体分划元件的制作具有很好的推广应用价值。可广泛应用于光学仪器分划元件的加工,可用于航天、航空、激光驾束制导系统、红外产品光学系统等。在锗晶体光坯上制作出明暗对比度大、图案边缘不均匀性小的码盘图案。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶体 码盘分划 工艺 | ||
【主权项】:
一种锗晶体码盘分划工艺,其特征在于:其工艺流程为:涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→清洗→镀铬→去胶→检验。
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