[发明专利]一种真空蒸镀设备在审
| 申请号： | 201410212548.2 | 申请日： | 2014-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN105088149A | 公开（公告）日： | 2015-11-25 |
| 发明（设计）人： | 宋太伟;高伟波;方祥;余冬冬;余文凤;杨光 | 申请（专利权）人： | 上海建冶环保科技股份有限公司;上海陆亿新能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201108 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种真空蒸镀设备，包括真空腔室、位于真空腔室内底板中心区域的蒸发源、真空腔室内上部的可三维移动的基板、安装在基板底面上的套筒，所述的套筒在高度方向不同位置均匀设置有阻挡片，每层阻挡片上带有均匀分布的圆孔，所述的蒸发源包括蒸发盘和置于蒸发盘内的蒸发材料，蒸发源一侧设置有电子枪，通过控制电子枪内X、Y偏转线圈内的电流产生电子束实现蒸发材料的定点蒸发。本发明的实施通过控制蒸发盘内蒸发材料的蒸发量和基板上薄膜沉积速率，实现了纳米级薄膜的均匀沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 设备 | ||
【主权项】：
一种真空蒸镀设备, 其特征在于，包括真空腔室、位于真空腔室内底板中心区域的蒸发源、真空腔室内上部的可三维移动的基板、安装在基板底面上的套筒，所述的套筒在高度方向不同位置均匀设置有阻挡片，每层阻挡片上带有均匀分布的圆孔，所述的蒸发源包括蒸发盘和置于蒸发盘内的蒸发材料，蒸发源一侧设置有电子枪，通过控制电子枪内X、Y偏转线圈内的电流产生电子束实现蒸发材料的定点蒸发。
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