[发明专利]紫外掩膜及其制作方法

摘要

本发明公开了一种紫外掩膜及其制作方法。该紫外掩膜包括覆设于彩色滤光片基板的显示区的黑色矩阵光阻层；其制作方法包括：在彩色滤光片基板上覆设黑色矩阵光阻材料，并选择性地除去分布于所述基板的非显示区的黑色矩阵光阻材料，而保留分布于所述基板的显示区的黑色矩阵光阻材料，以及，使分布于所述显示区的黑色矩阵光阻材料固化，形成所述紫外掩膜。本发明通过采用CF制程代替现有的Array制程，只需彩色滤光片黑色光阻(简称为CF BM)黄光制程即可完成紫外掩膜的制作，相比Array制程减少了一次成膜，一次蚀刻、一次剥离的制程，制作流程间接，制作时间短，成本低。

主权项

一种紫外掩膜的制作方法，其特征在于包括：在彩色滤光片基板上覆设光屏蔽材料，除去分布于所述基板的非显示区的光屏蔽材料，保留分布于所述基板的显示区的光屏蔽材料，从而在所述显示区形成紫外掩膜。