[发明专利]上盖控制装置及半导体加工设备

摘要

本发明涉及一种上盖控制装置及半导体加工设备，其包括气缸和气路控制单元，气缸用于在气路控制单元的控制下驱动上盖开启或关闭；气路控制单元包括检测单元、流量调节单元和控制单元；检测单元用于在上盖开启和关闭的过程中，检测上盖是否到达预设的张开角度，若是，则向控制单元发送检测信号；控制单元用于根据检测信号向流量调节单元发送控制信号；流量调节单元用于根据控制信号在上盖的开启或关闭过程中对通入气缸的流量进行调节，以改变上盖开启或关闭的速度。上盖控制装置可以使上盖在其开启或关闭过程中进行变速；从而可以使上盖在其开启的初段和末段，以及关闭的初段和末段，以较慢的速度转动；在上盖开启和关闭的中段，以较快的速度转动。

主权项

一种上盖控制装置，用于控制反应腔室的上盖开启或者关闭，其包括气缸和气路控制单元，所述气缸用于在所述气路控制单元的控制下驱动所述上盖开启或关闭；其特征在于，所述气路控制单元包括检测单元、流量调节单元和控制单元；其中所述检测单元用于在所述上盖开启和关闭的过程中，检测所述上盖的张开角度是否到达预设角度，若是，则向所述控制单元发送检测信号,所述预设角度包括角度不同的多个；所述控制单元用于根据所述检测信号向所述流量调节单元发送控制信号；所述流量调节单元用于根据所述控制信号在所述上盖的开启或关闭过程中对通入所述气缸的流量进行调节，以在上盖开启和关闭过程的初段和末段气缸驱动上盖以较慢的速度转动、在上盖开启和关闭过程的中段气缸驱动上盖以较快的速度转动。