[发明专利]下基板及其制造方法和液晶透镜在审
| 申请号： | 201410222101.3 | 申请日： | 2014-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN104062845A | 公开（公告）日： | 2014-09-24 |
| 发明（设计）人： | 舒适;黎午升;张锋;谷耀辉 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02F1/1339;G02F1/29 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种下基板及其制造方法和液晶透镜，其中该下基板的制造方法包括：在透明衬底的上表面形成掩模层，所述掩模层包括：遮光区域和透光区域；在所述掩模层上方形成隔垫物基材；利用曝光光线照射所述透明衬底的下表面，所述曝光光线透过所述透光区域对所述隔垫物基材进行曝光；对所述隔垫物基材进行显影处理，形成横截面积沿下表面至上表面方向递减的隔垫物，本发明的技术方案采用“由下至上”的曝光方式，可实现显影处理后形成的隔垫物横截面积沿隔垫物的下表面至上表面方向递减，该隔垫物能稳定的固定在透明衬底上，从而有效的解决了在下基板与上基板在对盒过程中隔垫物倾倒的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 下基板 及其 制造 方法 液晶 透镜 | ||
【主权项】：
一种下基板的制造方法，其特征在于，包括：在透明衬底的上表面形成掩模层，所述掩模层包括：遮光区域和透光区域；在所述掩模层上方形成隔垫物基材；利用曝光光线照射所述透明衬底的下表面，所述曝光光线透过所述透光区域对所述隔垫物基材进行曝光；对所述隔垫物基材进行显影处理，形成横截面积沿下表面至上表面方向递减的隔垫物。
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