[发明专利]一种辐射加热元件、辐射加热器及MOCVD反应器在审
| 申请号： | 201410227024.0 | 申请日： | 2014-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN104046965A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 罗才旺;魏唯;陈特超;舒勇东 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C16/48 | 分类号： | C23C16/48;C23C16/18 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及金属有机物化学气相沉积设备领域，具体为一种辐射加热元件、辐射加热器及MOCVD反应器，加热元件由加热片以轴线对称方式绕制而成，加热片的截面为异型截面，辐射加热器采用了该异型截面的加热元件，而MOCVD反应器采用了该辐射加热器制成。本发明在使用辐射加热的条件下，通过改进加热元件的结构、形状，提升了加热元件所能承受的功率。通过与之配套的高温MOCVD反应器，解决了目前广泛使用的MOCVD反应器不能提供生长高质量AlN、AlGaN外延工艺所需要的高温条件的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 加热 元件 加热器 mocvd 反应器 | ||
【主权项】：
一种辐射加热元件，由加热片（17）以轴线对称方式绕制而成，其特征是，所述加热片（17）的截面为异型截面。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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