[发明专利]压印方法、压印装置和器件制造方法有效

专利信息
申请号: 201410227550.7 申请日: 2014-05-27
公开(公告)号: CN104181768B 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 佐藤浩司;樋浦充 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F9/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 曾琳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本公开涉及压印方法、压印装置和器件制造方法。本公开的压印方法包括:在其上形成有包括基板上标记的图案的基板上供给压印材料;使具有包括模具上标记的图案的模具与压印材料接触;在模具与压印材料接触的状态下固化压印材料;并且形成包括压印材料上标记的图案,其特征在于,使用被配置为形成压印材料上标记的图像和基板上标记的图像的光学系统来在增大了基板与模具之间的空间之后检测压印材料上标记和基板上标记,直到模具上标记位于光学系统的焦深之外为止,从而获得基板上的图案与压印材料上的图案之间的相对位置偏差。
搜索关键词: 压印 方法 装置 器件 制造
【主权项】:
1.一种用于压印装置的压印方法,所述压印方法包括:在基板上供给压印材料,其中所述基板包括压射区域以及在所述压射区域中的具有基板标记的图案;使具有图案区域和模具标记的模具与压印材料接触;通过使用光学系统检测模具标记和基板标记来执行对准;在模具与压印材料接触的状态下固化压印材料;通过增大基板与模具之间的空间来在基板上形成压印材料的图案和通过转印的模具标记形成的压印材料的转印标记,以及获得压射区域中的图案与形成到压印材料上的图案之间的相对位置偏差,其中,在基板与模具之间的空间增大到模具标记位于所述光学系统的焦深之外之后,通过使用所述光学系统检测来自转印标记的光和来自基板标记的光,获得压射区域中的图案与形成到压印材料上的图案之间的相对位置偏差。
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