[发明专利]一种微透镜的制备方法无效
申请号: | 201410228134.9 | 申请日: | 2014-05-27 |
公开(公告)号: | CN103995305A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 姚琲;崔灿;李轩;王楠 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王秀奎 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开一种微透镜的制备方法,利用水滴模板法制作微透镜阵列的模板,然后利用冰—水转化的方法制备微透镜阵列,最后用高分子薄膜作为模板制作微透镜。本发明的技术方案简单易行,成本较低,工艺流程简化,实验设备简便,可大规模生产微透镜阵列。 | ||
搜索关键词: | 一种 透镜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种微透镜的制备方法,其特征在于,按照下述步骤进行:步骤1,以利用水滴模板法制得的蜂窝状有序多孔膜作为模板,使用聚甲基硅氧烷在模板上进行浇铸,以得到聚甲基硅氧烷印章;步骤2,使用氧等离子体对聚甲基硅氧烷印章进行修饰,以得到亲水性表面,将聚甲基硅氧烷印章表面基团由疏水性的Si‑CH变为亲水性的Si‑OH;步骤3,将亲水性表面修饰后的聚甲基硅氧烷印章进行全氟化处理,利用全氟癸基三氯硅烷与聚甲基硅氧烷印章进行反应,并使全氟癸基三氯硅烷与聚甲基硅氧烷印章之间形成稳定化学键键合,再将聚甲基硅氧烷在经过全氟化处理的聚甲基硅氧烷印章上进行浇铸,以得到反向的聚甲基硅氧烷印章,即与之前利用水滴模板法制得的蜂窝状有序多孔膜作为模板制备的凸向的聚甲基硅氧烷印章相比,在全氟化处理的聚甲基硅氧烷印章上进行浇铸的第二层聚甲基硅氧烷印章变为凹向的;步骤4,将制备的反向的聚甲基硅氧烷印章从水中取出,由于反向的聚甲基硅氧烷印章表面具有凹陷的凹坑,在凹坑中存有水,将反向的聚甲基硅氧烷印章上设置有凹坑的一面与亲水性石英玻璃基底相接触,进行冷却,以使凹坑中水转化为冰,取下反向的聚甲基硅氧烷印章,即可在亲水性石英玻璃基底上得到冰阵列;步骤5,在亲水性石英玻璃基底的冰阵列上浇铸聚甲基丙烯酸甲酯的氯仿的溶液,在室温20—25摄氏度下放置,冰阵列融化的同时,溶剂氯仿挥发,得到聚甲基丙烯酸甲酯薄膜;步骤6,以制备的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜作为模板制作,将聚甲基硅氧烷浇铸在聚甲基丙烯酸甲酯薄膜上,得到聚甲基丙烯酸甲酯的微透镜阵列。
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