[发明专利]一种LED芯片P面电极及P面电极制备方法有效

专利信息
申请号: 201410233155.X 申请日: 2014-05-28
公开(公告)号: CN103985806B 公开(公告)日: 2017-02-01
发明(设计)人: 徐鹏;李有群;廖伟;秦坤;廉鹏 申请(专利权)人: 马鞍山太时芯光科技有限公司
主分类号: H01L33/40 分类号: H01L33/40;C23F1/20;C23F1/26;C23F1/14
代理公司: 南京知识律师事务所32207 代理人: 蒋海军
地址: 243000 安徽省马鞍*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种LED芯片P面电极及P面电极制备方法,属于LED电极制备技术领域。本发明的P面电极包括接触电极和焊线电极,接触电极包括第一镀金层、金铍层和第二镀金层,焊线电极的第一镀钛层厚度为镀铝层的厚度为第二镀钛层的厚度为本发明的刻蚀液包括钛刻蚀液、铝刻蚀液和金刻蚀液,组成简单、配比合理,避免了电极金属层厚度增加造成的湿法刻蚀电极图形变形问题,本发明P面电极的制备方法,对LED芯片P面电极依次进行光刻和湿法刻蚀处理以获得厚度适度增加的焊线电极,工艺简单,重复性好。本发明很好的解决了焊线电极与封装导线之间的虚焊、脱离问题。
搜索关键词: 一种 led 芯片 电极 制备 方法
【主权项】:
一种LED芯片P面电极,包括接触电极和焊线电极,其特征在于:所述的接触电极包括第一镀金层(11)、金铍层(12)和第二镀金层(13),所述的第一镀金层(11)的厚度为金铍层(12)的厚度为第二镀金层(13)的厚度为所述的焊线电极包括第一镀钛层(21)、镀铝层(22)和第二镀钛层(23),第一镀钛层(21)的厚度为镀铝层(22)的厚度为第二镀钛层(23)的厚度为
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