[发明专利]一种LED芯片GaP层用刻蚀液及刻蚀方法以及表面粗化方法有效

专利信息
申请号: 201410239956.7 申请日: 2014-05-30
公开(公告)号: CN103966605A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 廖伟;秦坤;李有群;廉鹏 申请(专利权)人: 马鞍山太时芯光科技有限公司
主分类号: C23F1/16 分类号: C23F1/16;H01L33/22;H01L33/00
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 蒋海军
地址: 243000 安徽省马鞍*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种LED芯片GaP层用刻蚀液及刻蚀方法以及表面粗化方法,属于表面粗化领域。它包括一种刻蚀液及一种LED芯片表面粗化方法,刻蚀液由盐酸、磷酸、硫酸和双氧水组成,LED芯片表面粗化结合了等离子刻蚀和湿法刻蚀两种方法,使刻蚀孔呈碗状,能有效减小出射光的全反射,提高了LED芯片的出光效率,本发明中的粗化方法不会引起LED芯片表面接触电压升高,对产品可靠性也没有影响,具有工艺简单、设计合理、操作简便的优点。
搜索关键词: 一种 led 芯片 gap 刻蚀 方法 以及 表面
【主权项】:
一种LED芯片GaP层用刻蚀液,其特征在于:其由盐酸、磷酸、硫酸和双氧水组成,所述的刻蚀液中各组分的体积分数分别为:盐酸10‑20%,磷酸30‑50%,硫酸10‑20%,双氧水25‑40%。 
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