[发明专利]形成互连结构的方法

摘要

本发明提供一种形成互连结构的方法，包括：提供衬底；在所述衬底上形成层间介质层；刻蚀所述层间介质层，以形成开口，使所述开口入口处为截面呈倒梯形的结构，或者，使开口的底部为截面呈倒梯形的结构；在所述开口中填充金属层。本发明的有益效果在于，使所述开口入口处为截面呈倒梯形的结构，或者，使开口的底部为截面呈倒梯形的结构，这样有利于改善开口的填充条件，有利于提高在开口中填充金属层的填充效果，从而提高了互连结构的可靠性。

主权项

1.一种形成互连结构的方法，其特征在于，包括：提供衬底；在所述衬底上形成层间介质层；刻蚀所述层间介质层形成开口，使所述开口入口处为截面呈倒梯形的结构，或者使开口的底部为截面呈倒梯形的结构；在所述开口中填充金属层；刻蚀层间介质层形成开口的步骤包括：采用第一氟基刻蚀剂、第二氟基刻蚀剂刻蚀所述层间介质层，所述第一氟基刻蚀剂中氟的原子个数的比例与第二氟基刻蚀剂中氟的原子个数的比例不同；刻蚀层间介质层形成开口的步骤包括：先采用第一氟基刻蚀剂进行刻蚀，然后采用第二氟基刻蚀剂进行刻蚀以形成所述开口；所述第二氟基刻蚀剂中氟的原子个数的比例大于所述第一氟基刻蚀中氟的原子个数的比例，以使所述开口入口处为截面呈倒梯形的结构；刻蚀层间介质层形成开口的步骤包括：先采用全氟丁二烯气体作为第一氟基刻蚀剂刻蚀所述层间介质层，然后采用四氟化碳气体作为第二氟基刻蚀剂刻蚀所述层间介质层，以形成所述开口。