[发明专利]光配向膜及其制作方法、液晶显示器有效
申请号: | 201410241216.7 | 申请日: | 2014-05-30 |
公开(公告)号: | CN104035237B | 公开(公告)日: | 2017-03-01 |
发明(设计)人: | 肖昂 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及液晶显示技术领域,公开了一种光配向膜及其制作方法、液晶显示器。所述光配向膜的制作方法包括在一基板上形成光配向薄膜;使偏振光通过一掩膜板照射所述光配向薄膜,所述掩膜板包括透光区域和位于所述透光区域外围的不透光区域,偏振光透过所述透光区域对照射的光配向薄膜进行取向;去除所述不透光区域的光配向薄膜,形成图形化的光配向膜。相对于图形化涂覆方式形成的图形化光配向膜,本发明的技术方案提高了光配向膜边界的精度,生产效率较高。而且掩膜板的制作成本及维护成本均低于图形化涂覆使用的转印板,降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 及其 制作方法 液晶显示器 | ||
【主权项】:
一种光配向膜的制作方法,其特征在于,包括:在一基板上形成光配向薄膜;使偏振光通过一掩膜板照射所述光配向薄膜,所述掩膜板包括透光区域和位于所述透光区域外围的不透光区域,偏振光透过所述透光区域对照射的光配向薄膜进行取向;去除所述不透光区域对应的光配向薄膜,形成图形化的光配向膜;在所述基板上形成光配向薄膜的步骤之后,在使偏振光通过一掩膜板照射所述光配向薄膜的步骤之前还包括:对所述基板进行第一加热处理。
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