[发明专利]制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201410242295.3 申请日: 2014-06-03
公开(公告)号: CN104004990A 公开(公告)日: 2014-08-27
发明(设计)人: 王咸海;洪瑞金;脱文刚;张大伟;陶春先 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/35
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 代理人: 郁旦蓉
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:衬底清洗:依次使用丙酮、无水乙醇、去离子水清洗衬底后放入磁控溅射室样品架上;设置重金属掺杂:取钼丝固定在锌靶上,钼丝分布形状为圆心辐射状,钼掺杂量控制在0.5-10%范围内;抽取真空:将磁控溅射室抽真空;调节溅射气氛:分别以氧气和氩气作为反应气体和溅射气体输入磁控溅射室,氧气纯度为99.99%,氩气纯度在99.95%以上,氧气流量与氩气流量的比值控制在3:2至4:1之间;磁控溅射生长:使用60W的溅射功率,在0.8pa、室温条件下,先对锌靶预溅射5min,然后进行反应溅射生长钼掺杂的氧化锌薄膜。本发明制得的产品与现有的氧化锌薄膜相比具有更好的透过率。
搜索关键词: 制备 晶态 透明 氧化锌 薄膜 方法
【主权项】:
一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:衬底清洗:依次使用丙酮、无水乙醇、去离子水清洗衬底后放入磁控溅射室样品架上;设置重金属掺杂:取钼丝固定在锌靶上,钼丝分布形状为圆心辐射状,钼掺杂量控制在0.5‑10%范围内;抽取真空:将所述磁控溅射室抽真空;调节溅射气氛:分别以氧气和氩气作为反应气体和溅射气体输入所述磁控溅射室,氧气纯度为99.99%,氩气纯度在99.95%以上,氧气流量与氩气流量的比值控制在3:2至4:1之间;磁控溅射生长:使用60W的溅射功率,在0.8pa、室温条件下,先对所述锌靶预溅射5min,然后进行反应溅射生长钼掺杂的氧化锌薄膜。
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