[发明专利]一种场发射用铷铯掺杂金属基石墨烯冷阴极的制备方法有效
申请号: | 201410247705.3 | 申请日: | 2014-06-05 |
公开(公告)号: | CN104018112A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 张跃;丁一;廖庆亮;闫小琴;白鹤;王钦玉;章龙 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12;C23C4/04 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种场发射用铷铯掺杂金属基石墨烯冷阴极的制备方法,属于纳米材料场发射电子材料领域。本发明旨在设计一种新型场致发射用冷阴极组份即铷铯掺杂石墨烯,并建立一种快速、可控、均匀和大面积制备致密冷阴极材料的新方法。其特征在于:以金属为基底,利用真空等离子喷涂技术,以铷铯掺杂石墨烯粉末为原材料,大面积喷涂制备致密均匀和较厚的金属基铷铯掺杂石墨烯涂层材料,继而利用该涂层作为冷阴极研究其场发射性能。本发明具备系统结构简单、成本低廉、加工速度快和调控能力强等优点,适于制备大面积的石墨烯涂层材料,并在成份上有所创新,具有重大的商业价值和现实意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 发射 用铷铯 掺杂 金属 基石 墨烯冷 阴极 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种场发射用铷铯掺杂金属基石墨烯冷阴极的制备方法,其特征在于以金属为基底,利用真空等离子喷涂技术,以铷铯掺杂石墨烯粉末为原材料,大面积喷涂制备致密均匀和较厚的金属基铷铯掺杂石墨烯涂层材料,继而利用该涂层作为冷阴极研究其场发射性能,具体制备步骤如下:(1)配制用于真空等离子喷涂的铷铯掺杂石墨烯粉末材料;(2)以金属基为基体,预处理;(3)利用真空等离子喷涂,制备NiCo合金材料粘结打底层;(4)利用真空等离子喷涂,制备金属基铷铯掺杂石墨烯涂层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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