[发明专利]一种场发射用铷铯掺杂金属基石墨烯冷阴极的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410247705.3 申请日: 2014-06-05
公开(公告)号: CN104018112A 公开(公告)日: 2014-09-03
发明(设计)人: 张跃;丁一;廖庆亮;闫小琴;白鹤;王钦玉;章龙 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C23C4/12 分类号: C23C4/12;C23C4/04
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 皋吉甫
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种场发射用铷铯掺杂金属基石墨烯冷阴极的制备方法,属于纳米材料场发射电子材料领域。本发明旨在设计一种新型场致发射用冷阴极组份即铷铯掺杂石墨烯,并建立一种快速、可控、均匀和大面积制备致密冷阴极材料的新方法。其特征在于:以金属为基底,利用真空等离子喷涂技术,以铷铯掺杂石墨烯粉末为原材料,大面积喷涂制备致密均匀和较厚的金属基铷铯掺杂石墨烯涂层材料,继而利用该涂层作为冷阴极研究其场发射性能。本发明具备系统结构简单、成本低廉、加工速度快和调控能力强等优点,适于制备大面积的石墨烯涂层材料,并在成份上有所创新,具有重大的商业价值和现实意义。
搜索关键词: 一种 发射 用铷铯 掺杂 金属 基石 墨烯冷 阴极 制备 方法
【主权项】:
一种场发射用铷铯掺杂金属基石墨烯冷阴极的制备方法,其特征在于以金属为基底,利用真空等离子喷涂技术,以铷铯掺杂石墨烯粉末为原材料,大面积喷涂制备致密均匀和较厚的金属基铷铯掺杂石墨烯涂层材料,继而利用该涂层作为冷阴极研究其场发射性能,具体制备步骤如下:(1)配制用于真空等离子喷涂的铷铯掺杂石墨烯粉末材料;(2)以金属基为基体,预处理;(3)利用真空等离子喷涂,制备NiCo合金材料粘结打底层;(4)利用真空等离子喷涂,制备金属基铷铯掺杂石墨烯涂层。
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