[发明专利]利用新建基坑支护结构清除地下障碍物的施工方法有效

专利信息
申请号: 201410247776.3 申请日: 2014-06-05
公开(公告)号: CN104060615A 公开(公告)日: 2014-09-24
发明(设计)人: 魏春明;梁华杰;王青辉;王立群;刘剑;王烨;陆靖;才华;刘柳;杨鹏飞;管盈铭 申请(专利权)人: 江苏省华建建设股份有限公司
主分类号: E02D17/02 分类号: E02D17/02;E02D17/04
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 冯子玲
地址: 225002 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种利用新建基坑支护结构清除地下障碍物的施工方法,包括以下步骤:步骤一,确定地下障碍物的具体位置和需要施工的若干根立柱桩的位置,在清障区域平整场地,浇筑混凝土地坪;步骤二,施工立柱桩;步骤三,施工基坑的第一道混凝土支撑;步骤四,清除地下障碍物,直到露出原状土,回填土至第二道混凝土支撑底设计标高下100mm;步骤五,施工第二道混凝土支撑;步骤六,采用高压旋喷桩机,施工坑底加固;步骤七,补打降水井,进行基坑降水。步骤八,基坑继续开挖施工。本发明的施工方法,使坑内清障与基坑开挖同步进行,不但减少了工期,也降低工程造价。
搜索关键词: 利用 新建 基坑 支护 结构 清除 地下 障碍物 施工 方法
【主权项】:
一种利用新建基坑支护结构清除地下障碍物的施工方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一,确定地下障碍物的具体位置和需要施工的若干根立柱桩的位置,在清障区域平整场地,浇筑至少150mm厚的混凝土地坪;步骤二,施工立柱桩;步骤三,采用镐头机破除第一道混凝土支撑底设计标高以上的混凝土地坪和地下障碍物,施工基坑的第一道混凝土支撑;步骤四,清除地下障碍物,直到露出原状土,回填土至第二道混凝土支撑底设计标高下100mm;步骤五,施工第二道混凝土支撑;步骤六,采用高压旋喷桩机,施工坑底加固;步骤七,施工坑底加固完成后补打降水井,进行基坑降水。步骤八,基坑继续开挖施工。
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