[发明专利]一种表面多功能化微流控芯片的圆片级制造方法有效

专利信息
申请号: 201410250429.6 申请日: 2014-06-06
公开(公告)号: CN103991841A 公开(公告)日: 2014-08-20
发明(设计)人: 李昕欣;陈传钊;许鹏程 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种表面多功能化微流控芯片的圆片级制造方法,包括步骤:1)提供一表面具有微通道和储液池的基底,生长第一自组装单层膜;2)提供一具有镂空结构的硬掩膜,对准后,利用紫外光穿过镂空结构辐照至第一自组装单层膜的局部区域,使所述第一自组装单层膜的局部区域被氧化去除;3)在去除第一自组装单层膜的区域生长第二自组装单层膜。4)重复步骤2),局部去除所述第一自组装单层膜的另一局部区域,并在这一区域生长第三自组装单层膜;5)继续重复上述去除和生长步骤,实现多重自组装单层膜在圆片级基底表面的集成生长。该方法可应用于多功能微流控芯片的批量制造,且材料制备简单成熟,易于操作,单次操作成本低廉,具有较强的推广及应用价值。
搜索关键词: 一种 表面 多功能 化微流控 芯片 圆片级 制造 方法
【主权项】:
一种表面多功能化微流控芯片的圆片级制造方法,其特征在于,所述制造方法至少包括步骤:1)提供一表面具有微通道和储液池的基底,在所述微通道和储液池中生长第一自组装单层膜;2)提供一具有镂空结构的硬掩膜,与所述基底对准后,利用紫外光穿过镂空结构辐照至第一自组装单层膜的局部区域,使所述第一自组装单层膜的局部区域被氧化去除;3)在去除第一自组装单层膜的区域生长第二自组装单层膜;4)重复步骤2),局部去除所述第一自组装单层膜的另一局部区域,并在这一区域生长第三自组装单层膜;5)继续重复上述去除和生长步骤,实现多重自组装单层膜在圆片级基底表面的集成生长。
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