[发明专利]一种表面多功能化微流控芯片的圆片级制造方法有效
申请号: | 201410250429.6 | 申请日: | 2014-06-06 |
公开(公告)号: | CN103991841A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 李昕欣;陈传钊;许鹏程 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种表面多功能化微流控芯片的圆片级制造方法,包括步骤:1)提供一表面具有微通道和储液池的基底,生长第一自组装单层膜;2)提供一具有镂空结构的硬掩膜,对准后,利用紫外光穿过镂空结构辐照至第一自组装单层膜的局部区域,使所述第一自组装单层膜的局部区域被氧化去除;3)在去除第一自组装单层膜的区域生长第二自组装单层膜。4)重复步骤2),局部去除所述第一自组装单层膜的另一局部区域,并在这一区域生长第三自组装单层膜;5)继续重复上述去除和生长步骤,实现多重自组装单层膜在圆片级基底表面的集成生长。该方法可应用于多功能微流控芯片的批量制造,且材料制备简单成熟,易于操作,单次操作成本低廉,具有较强的推广及应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 多功能 化微流控 芯片 圆片级 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种表面多功能化微流控芯片的圆片级制造方法,其特征在于,所述制造方法至少包括步骤:1)提供一表面具有微通道和储液池的基底,在所述微通道和储液池中生长第一自组装单层膜;2)提供一具有镂空结构的硬掩膜,与所述基底对准后,利用紫外光穿过镂空结构辐照至第一自组装单层膜的局部区域,使所述第一自组装单层膜的局部区域被氧化去除;3)在去除第一自组装单层膜的区域生长第二自组装单层膜;4)重复步骤2),局部去除所述第一自组装单层膜的另一局部区域,并在这一区域生长第三自组装单层膜;5)继续重复上述去除和生长步骤,实现多重自组装单层膜在圆片级基底表面的集成生长。
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